Équipement pour les semiconducteurs

Durant les phases de dépôt de couches minces telles que l'épitaxie ou le MOCVD, Mersen fournit des équipements en graphite ultra pur qui vont supporter les substrats ou "wafers". Intervenant au cœur du procédé, ces équipements, suscepteurs d'épitaxie ou plateaux satellites pour le MOCVD sont d'abord soumis à l'environnement du dépôt :

• forte température.
• Vide poussé.
• Utilisation de précurseurs gazeux agressifs.
• Zéro contamination, absence de pelage
• Résistance aux acides forts lors des nettoyages

Mersen répond à ces exigences en proposant des équipements en graphite ultra pur revêtus avec du carbure de silicium. 
Ces solutions dédiées sont le fruit de notre expertise sur les matériaux et l'usinage de précision :

• Des nuances de graphite ultra pur contrôlées par ETV-ICP
• La compatibilité (CTE) de nos nuances de graphite avec le carbure de silicium garantit l'intégrité du revêtement protecteur sur le long terme.
• Notre usinage de précision soumis à un contrôle tridimensionnel, pour le respect du design de pièces très complexes.