Présent dans 33 pays avec plus de 50 sites industriels et 18 centres de R&D, Mersen développe des solutions sur- mesure et fournit des produits clés au cœur des installations de ses clients pour répondre aux nouveaux défis technologiques qui façonneront le monde de demain.
En 2023, Mersen a présenté sa feuille de route stratégique à l’horizon 2027 ; un changement important de dimension pour le Groupe qui illustre la pertinence de notre positionnement sur les marchés de la transition énergétique.
Rejoindre Mersen, c’est rejoindre une entreprise industrielle internationale ancrée dans le réel et projetée dans le futur. Un monde de diversités tant au niveau des métiers, des technologies, des projets que des cultures.
Du graphite ultra-pur Mersen pour l'industrie du semi-conducteur et des panneaux photovoltaïques contrôlé avec la méthode ICP.
Du graphite ultra-pur Mersen pour l'industrie du semi-conducteur et des panneaux photovoltaïques contrôlé avec la méthode ICP.
Documentation
Pureté du graphite
Mersen a développé des procédés qui permettent d’améliorer très sensiblement les propriétés physico-chimiques de nos matériaux, lorsque cela devient nécessaire tout particulièrement pour des applications de haute technologie aux fortes contraintes.
Mersen propose la méthode analytique ETV-ICP (Electro Thermal Vaporization & Inductively Coupled Plasma) pour mesurer la pureté du graphite.
Les contraintes technologiques des industries du semiconducteur et du solaire
Contrainte de pureté
Nos procédés de purification permettent d’atteindre des niveaux d’impureté extrêmement faibles jusqu’à moins de 5 ppm.
Nous détectons et contrôlons ces impuretés selon la méthode ETV-ICP qui permet un niveau de détection jusqu’à moins de 5 ppb.
Contrainte de propreté
L’imprégnation VCI (imprégnation Carbone vitreux) a été développée pour réduire l’émission de particules et le dégazage sous vide des matériaux, notamment pour les applications semi-conducteurs.
Résistance aux réactifs des procédés plasmas
Les produits de Mersen peuvent être revêtus par une couche mince de pyro-carbone, qui réduit au minimum la perméabilité du matériau aux produits réactifs, tout particulièrement pour les applications semi-conducteurs.
Pour renforcer encore la résistance aux réactifs du procédé, Mersen propose une imprégnation résine dans la masse qui réduit les porosités.
Résistance à l'hydrogène au-delà de 900°C, aux réactifs de MOCVD, aux acides forts (HCL, HF)
Mersen maîtrise le dépôt de couches minces de carbure de silicium qui offre une protection sans équivalent des équipements en graphite dans ses environnements particulièrement agressifs.
